Communication Dans Un Congrès
Année : 2023
Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://lilloa.hal.science/hal-04474266
Soumis le : vendredi 23 février 2024-08:42:32
Dernière modification le : mercredi 1 avril 2026-20:06:43
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-04474266 , version 1
Citer
Charafeddine Jama. Effect of cold plasma process parameters for organosilicon deposition on corrosion protection performance. Smart coatings ans Surfaces, Oct 2023, Al Bufeira, Portugal. ⟨hal-04474266⟩
Collections
70
Consultations
0
Téléchargements
